據悉，雙光子激光直寫技術因具備高分辨率、低熱效應、無掩模和真三維加工能力，是微納加工領域的前沿方向，廣泛應用于芯片制造、光存儲、微流控和精密傳感等領域。但傳統單通道激光直寫在加工速度上存在瓶頸，難以滿足高精度、大面積制造的產業化需求。

　　對此，研發團隊采用雙光子激光直寫技術，提出數字微鏡協同微透鏡陣列的光場調控方案，可在系統中生成1萬多個可獨立控制的激光焦點。每個焦點能量可實現169階以上的精細調節，從而實現多通道獨立控制。

　　浙江大學極端光學技術與儀器全國重點實驗室副主任匡翠方將此突破比喻為“同時用1萬支筆寫1萬個不同的字”?！叭绾巍畬憽镁毲揖鶆蚴请y點所在。”匡翠方介紹，目前該激光直寫光刻機實現2.39×10⁸體素/秒的超高打印速率，加工速度和精度均處于國際領先水平。

　　此外，研發團隊提出自適應勻化算法、并行條帶掃描、并行灰度體曝光等加工策略。基于上述創新，該激光直寫光刻機的加工精度可達亞30納米，加工速率可達42.7平方毫米/分鐘，最大刻寫尺寸覆蓋12英寸硅片，為大面積微納結構的高通量、高精度制造提供了新途徑。(完)